上海交通大学上海交通大学化学气相沉积（化学气相沉积（化学气相沉积（化学气相沉积（CVDCVD）SEIEESEIEE 化学气相沉积的基本原理化学气相沉积的基本原理 化学气相沉积的特点化学气相沉积的特点 CVD方法简介方法简介 低压化学气相沉积（低压化学气相沉积（LPCVD）等离子体化学气相沉积等离子体化学气相沉积 其他其他CVD方法方法SEIEESEIEE概念概念 化学气相沉积（化学气相沉积（CVD）是一种化学气相生长法。）是一种化学气相生长法。把把含含有有构构成成薄薄膜膜元元素素的的一一种种或或几几种种化化合合物物的的单单质质气气体体供供给给基基片片，利利用用加加热热、等等离离子子体体、紫紫外外光光以以及及激激光光等等能能源源，借借助助气气相相作作用用或或在在基基板板表表面面的的化化学学反反应应（热分解或化学合成）生长形成固态的薄膜（热分解或化学合成）生长形成固态的薄膜。CVD法法可可制制备备薄薄膜膜、粉粉末末、纤纤维维等等材材料料，用用于于很很多多领领域域，如如半半导导体体工工业业、电电子子器件、光子及光电子工业等。器件、光子及光电子工业等。SEIEESEIEE CVD法法实实际际
