反应离子刻蚀Reactive Ion Etching1ppt课件刻 蚀 方 法 简 介RIE 刻 蚀 原 理RIE 刻 蚀 术 语RIE 刻蚀的工艺优化RIE 刻 蚀 机RIE刻蚀不足与损伤2ppt课件刻蚀技术刻蚀技术湿法湿法干法干法化学刻蚀化学刻蚀电解刻蚀电解刻蚀离子束溅射刻蚀（物理作用）离子束溅射刻蚀（物理作用）等离子体刻蚀（化学作用）等离子体刻蚀（化学作用）反应离子刻蚀（物理化学作用）反应离子刻蚀（物理化学作用）刻蚀技术分类：3ppt课件干法刻蚀特点特点:利用刻蚀气体辉光放电形成的等离子体进行刻蚀。利用刻蚀气体辉光放电形成的等离子体进行刻蚀。优点优点:各向异性好，选择比高，可控性、灵活性、重复性各向异性好，选择比高，可控性、灵活性、重复性好，细线条操作安全，易实现自动化，无化学废液，处理好，细线条操作安全，易实现自动化，无化学废液，处理过程未引入污染，洁净度高。过程未引入污染，洁净度高。缺点缺点：成本高，设备复杂。成本高，设备复杂。4ppt课件Reactive Ion Etching什么是反应离子刻蚀？是一种微电子干法腐蚀工艺。原理：原理：当在平板电极之间施加高频电压时会产生数百
