碳化硅第三代半导体之星.docx

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资源描述

1 耐高温高压高频,碳化硅电气性能优异碳化硅作为第三代宽禁带半导体材料的代表,在禁带宽度、击穿电场、热导率、电子饱和速率、抗辐射能力等关键参数方面具有显著优势,满足了现代工业对高功率、高电压、高频率的需求,主要被用于制作高速、高频、大功率及发光电子元器件,下游应用领域包括智能电网、新能源汽车、光伏风电、5G 通信等,在功率器件领域,碳化硅二极管、MOSFET已经开始商业化应用。 耐高温。碳化硅的禁带宽度是硅的 2-3 倍,在高温下电子不易发生跃迁,可耐受更高的工作温度,且碳化硅的热导率是硅的 4-5 倍,使得器件散热更容易,极限工作温度更高。耐高温特性可以显著提升功率密度,同时降低对散热系统的要求,使终端更加轻量和小型化。 耐高压。碳化硅的击穿电场强度是硅的 10 倍,能够耐受更高的电压,更适用于高电压器件。 耐高频。碳化硅具有 2 倍于硅的饱和电子漂移速率,导致其器件在关断过程中不存在电流拖尾现象,能有效提高器件的开关频率,实现器件小型化。 低能量损耗。碳化硅相较于硅材料具有极低的导通电阻,导通损耗低;同时,碳化硅的高禁带宽度大幅减少泄漏电

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