第十七章 扩散和离子注入1ppt课件17.1引引言言本章主要内容：本章主要内容：p扩散工艺和离子注入工艺扩散工艺和离子注入工艺p扩散和离子注入扩散和离子注入工艺的应用工艺的应用p扩散和离子注入扩散和离子注入设备设备本章知识要点：本章知识要点：l掌握掺杂的目的和应用；掌握掺杂的目的和应用；l掌握扩散和离子注入的原理及其应用；掌握扩散和离子注入的原理及其应用；l掌握退火效应和沟道效应掌握退火效应和沟道效应l了解离子注入设备。了解离子注入设备。2ppt课件掺杂原因：本征硅导电能力很差。本征硅导电能力很差。在在硅硅中中加加入入一一定定数数量量和和种种类类的的杂杂质质，改改变变其其电电学学性性质，并使掺入的杂质数量和分布情况都满足要求。质，并使掺入的杂质数量和分布情况都满足要求。17.1引引言言3ppt课件半导体常用杂质半导体常用杂质17.1引引言言4ppt课件扩扩散散:是是将将一一定定数数量量和和一一定定种种类类的的杂杂质质通通过过高高温温扩扩散散掺掺入入到到硅硅或或其其它它晶晶体体中中，以以改改变变晶晶体体的的电电学学性性质质，并并使使掺掺入入的的杂杂质质数数量量和和分布情况都满足要求的过程
