工艺光刻腐蚀课件.pptx

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资源描述

第三章第三章 MEMS工工艺 MEMS工艺概念 MEMS工艺分类MEMS工艺概念工艺:劳动者利用生产工具对各种原材料,半成品进行加工和处理,改变它们的几何形状,外形尺寸,表面状态,内部组织,物理和化学性能以及相互关系,最后使之成为预期产品的方法及过程。工艺技术:是人类在劳动中逐渐积累起来并经过总结的操作技术经验,它是应用科学,生产实践及劳动技能的总和。5层多晶硅工艺技术体硅工艺前工序、后工序、辅助制作工序 前工序:是指从原始晶片开始直到中测封装之前的所有工序过程。如果对前工序进行归纳分类,主要包括以下三类技术:图形转换技术:主要包括光刻、刻蚀等技术;薄膜制备技术:主要包括外延、氧化、化学气相沉积、物理 气相沉积(如溅射、蒸发)等;掺杂技术:主要包括扩散和离子注入等技术。后工序:是指从中测开始到完成直到出厂之间的所有工序,主要包括划片、封装、测试、老化、筛选等。辅助工序:为了保证前工序的顺利进行所需要的一些辅助性的工艺技术。主要的有以下几种:超净厂房技术:MEMS制造必须在超净环境中进行,环境中尘埃等将直接影响集成电路的成品率和可靠性。集成电路的规模越大、特征尺寸越小,要求的环境净化程度

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