2023/1/3集成电路设计基础1上次课内容上次课内容第第3章章 集成电路工艺简介集成电路工艺简介 3.1 引言引言 3.2 外延生长工艺外延生长工艺 3.3 掩模的制版工艺掩模的制版工艺 3.4 光刻工艺光刻工艺 3.5 掺杂工艺掺杂工艺 3.6 绝缘层形成工艺绝缘层形成工艺 3.7 金属层形成工艺金属层形成工艺2023/1/3集成电路设计基础2本次课内容本次课内容第第4章章 集成电路特定工艺集成电路特定工艺 4.1 引言引言 4.2 双极型集成电路的基本制造工艺双极型集成电路的基本制造工艺 4.3 MESFET工艺与工艺与HEMT工艺工艺 4.4 CMOS集成电路的基本制造工艺集成电路的基本制造工艺 4.5 BiCMOS集成电路的基本制造工艺集成电路的基本制造工艺2023/1/3集成电路设计基础3所谓特特定定工工艺艺，常常是指以一种材料为衬底、一种或几种类型的晶体管为主要的有源器件；辅以一定类型的无源器件；以特定的简单电路为基本单元；形成应用于一个或多个领域中各种电路和系统的工艺。4.1 4.1 4.1 4.1 引言引言引言引言2023/1/3集成电路设计基础4特定工艺特定工艺这些
