国家标准电子工厂洁国家标准电子工厂洁净厂房设计规范净厂房设计规范2022/12/30国家标准电子工厂洁净厂房设计规范1、电子工厂洁净厂房特点2、章节内容简介3、强制性条文等介绍4、结语国家标准电子工厂洁净厂房设计规范1、电子工厂洁净厂房特点电子产品生产发展迅猛 IC特征尺寸0.05m,1216，64G TFT第六代产品对化学污染物的严格要求大面积、大体量、组合式、多层洁净厂房投资大、能量消耗大国家标准电子工厂洁净厂房设计规范1、电子工厂洁净厂房特点集成电路对化学污染物的控制指标 国家标准电子工厂洁净厂房设计规范电子工厂洁净厂房的特点：微粒控制十分严格、要求控制0.02m甚至更小粒径 ISO1级或更严格。高纯物质，包括高纯水、高纯气体高纯化学品的供应、输 送。对微振控制十分严格、需制定切实可行的规定对防静电、电磁兼容等大体量、多层单向流洁净室，二层/三层布置数万m2。1、电子工厂洁净厂房特点国家标准电子工厂洁净厂房设计规范1、电子工厂洁净厂房特点项项项项目目目目位置位置位置位置状况状况状况状况规规规规格格格格（）（）（）（）洁净洁净洁净洁净生生生生产产产产区区区区面面面面积积积积（）（）
