目录目录n光刻胶的定义及其作用n光刻胶的成分n光刻胶的主要技术参数n光刻胶的分类n光刻胶的主要应用领域n光刻工艺流程定义:光刻胶(简称)又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。作用：a、将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光刻胶中；b、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。光刻胶的定义及其作用光刻胶的定义及其作用光刻胶的成分光刻胶的成分n树脂：光刻胶树脂是一种惰性的聚合物基质，是用来将其它材料聚合在一起的粘合剂。光刻胶的粘附性、胶膜厚度等都是树脂给的。n感光剂：感光剂是光刻胶的核心部分，它对光形式的辐射能，特别在紫外区会发生反应。曝光时间、光源所发射光线的强度都根据感光剂的特性选择决定的。n溶剂：光刻胶中容量最大的成分，感光剂和添加剂都是固态物质，为了方便均匀的涂覆，要将它们加入溶剂进行溶解，形成液态物质，且使之具有良好的流动性，可以通过旋转方式涂布在表面。n添加剂：用以改变光刻胶的某些特性，如改善光刻胶发生反射而添加染色剂。光刻胶的主要技光刻胶的主要技术参数参数n分辨率（）：是指光刻胶可再现图形的最小尺寸。一般用关键尺寸
