JGP-560b型高真空磁控溅射系统操作规程.DOC

JGP-560b 型高真空磁控溅射系统操作规程一开机前准备工作准备好溅射用的靶材、基片，开通循环冷却水，确保水量足够。开控制柜总电源（左）开V2升腔体关 V2装靶（留一圈起辉） ，装样品托检查样品转动，挡板控制等程序关腔体二抽真空1. 开机械泵，开旁抽气阀 V1, 溅射室开始抽真空。2. 打开左侧控制柜上真空计电源，开真空计，待真空计显示低于 10Pa 时，关闭 V1，开电磁阀DF。3. 打开分子泵（必须保证腔室80时，必须取下样品托上小磁块，以免被退磁。2. 直流、射频电源连续溅射时间不得超过 3 个小时，长时间溅射需中途暂停。3. 换拔线时，必须关闭电源。4. 溅射完成后，各功率、电流、电压必须调至最小值。5. 实验完后溅射腔室必须用机抽至真空状态，长时间不实验时应抽至高真空。6. 每次做完必须对腔体进行清理。7. 加热、溅射电源等出现异常时，不要盲目继续调大，以免损坏仪器，应将其降至最小值后及时与设备管理人联系。