活髓保存治疗.ppt

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资源描述

1、第十五章 活髓保存治疗,第一节 盖髓术:直接盖髓术 间接盖髓术第二节 牙髓切断术,第一节 盖髓术(pulp capping),定义:是一种保存活髓的方法, 即在接近牙髓的牙本质表面或已暴露的牙髓创面上, 覆盖具有使牙髓病变恢复效应的制剂,以保护牙髓, 消除病变。分类:直接盖髓术 间接盖髓术,第一节 盖髓术(pulp capping),一、直接盖髓术: 是用药物覆盖牙髓暴露处, 以保存牙髓活力的方法。(一)原理: # 将盖髓剂覆盖在暴露的牙髓创面上消除感染和炎症,保护牙髓组织, 使其恢复健康。 #牙髓细胞在受到刺激后可以发生分化,产生成牙本质样细胞, 使损伤的牙髓愈合。 #根尖孔未完全形成的患牙

2、:直接盖髓,待根尖孔形成后行根管充填。 #龋源性恒牙露髓:直接盖髓,效果较差。常常导致牙髓钙化和根管内吸收。,第一节 盖髓术(pulp capping),一、直接盖髓术:(二)适应症: 1、根尖孔尚未形成,因机械性、外伤性因素露髓的年轻恒牙。 2、意外穿髓,穿髓直径不超过0.5mm的恒牙。 3、根尖已完全形成,机械性露髓范围较小的恒牙。(三)禁忌症: 1、因龋露髓的的乳牙。 2、临床检查有慢性牙髓炎或根尖周炎表现的患牙。,第一节 盖髓术(pulp capping),一、直接盖髓术:(四)盖髓剂: 1、盖髓剂应具备的性质: (1)能够促进牙髓组织修复再生。 (2)对牙髓有较好的组织相容性。 (3

3、)有较强的杀菌或抑菌作用。 (4)有较强的渗透作用。 (5)有消炎作用。 (6)药效稳定、持久。 (7)便于操作。 2、常用的盖髓剂: (1)氢氧化钙 (2)ZOE (3)抗生素及糖皮质激素,第一节 盖髓术(pulp capping),一、直接盖髓术:(五)操作步骤: 1、制备洞形,清除龋坏组织。 无论外伤或深龋都应在局麻下进行 2、放盖髓剂。 生理盐水冲洗,隔湿,放盖髓剂,氧化锌暂封 3、永久充填。 #观察12周,如无症状,可去部分暂封物,双层垫底,充填。 #观察12周,仍敏感者,更换盖髓剂直至症状消失。 #如出现自发痛、夜间痛应改行根管治疗。,第一节 盖髓术(pulp capping),一

4、、直接盖髓术:(六)预后与转归: 1、预后的相关因素:(1)年龄 (2)牙髓暴露类型 (3)牙髓暴露的范围 (4)牙髓暴露位置 (5)牙髓暴露时间 (6)边缘渗漏 (7)全身因素 2、转归: (1)盖髓成功:形成修复性牙本质,封闭露髓孔。 (2)盖髓失败:炎症反应,钙化或内吸收。,第一节 盖髓术(pulp capping),一、直接盖髓术:(七)治疗失败及处理: 1、诊断错误: 重新确诊患牙,并选择适当的治疗方法。 2、未除净腐质: 一般应改行根管治疗术,如根尖尚未形成, 应重新去腐盖髓治疗。,第一节 盖髓术(pulp capping),二、间接盖髓术: 用盖髓剂覆盖在接近牙髓的牙本质上,以保

5、存牙髓活力。(一)原理: 牙髓对外来的刺激有一定的防御和修复能力。常见的反应是牙本质硬化,减少牙本质通透性而保护牙髓。同时盖髓剂又能刺激修复性牙本质的形成。从而避免了牙髓的暴露。,第一节 盖髓术(pulp capping),二、间接盖髓术: (二)适应症: 1、深龋、外伤等引起近髓患牙。 2、深龋引起的可复性牙髓炎。 3、对难以判断的慢性牙髓炎或可复性牙髓炎, 可作为诊断性治疗。,第一节 盖髓术(pulp capping),二、间接盖髓术:(三)操作步骤: 1、去腐 :局麻下操作,为避免穿髓,可保留少许近髓软龋。 2、放置盖髓剂 :加氧化锌暂封。 3、充填:观察12周无症状。 4、对曾保留少量

6、软龋的窝洞,6-8周后去除软龋,再垫底充填。,第二节 牙髓切断术(pulpotomy),定义:切除炎症牙髓组织,以盖髓剂覆盖于牙髓断面,保留正常牙髓组织的方法。一、原理: 去除炎症牙髓,盖髓剂覆盖断面,维持牙髓正常状态和功能。二、适应症: 根尖尚未完全形成的年轻恒牙。无论是龋源性、外伤性、机械性露髓均可进行治疗以保存活髓,直至牙根发育完成。,第二节 牙髓切断术(pulpotomy),三、操作步骤: 1、无菌操作:局麻、隔湿,预防牙髓组织再感染 2、去除龋坏组织:制备洞形, 3%过氧化氢清洗 3、揭髓室顶: 4、确定髓腔入口部位: 5、切除冠髓: 6、放盖髓剂: 7、永久充填:,第二节 牙髓切断术(pulpotomy),四、预后和转归: 1、失败:出现急、慢性牙髓炎症,改作根管治疗。 2、成功: (1)断面出现牙本质桥,成牙本质细胞样细胞排列整齐,牙本质封闭根管口,根髓活力正常。 (2)断面形成不规则钙化物,形成不规则的牙本质。 (3)断面部分牙本质桥形成,根髓有慢性炎症或内吸收。 多数学者主张待根尖发育完成后进行根管治疗。,第二节牙髓切断术(pulpotomy),五、失误及处理: 1、根髓感染 2、髓室穿孔:髓底穿孔:氢氧化钙 侧壁穿孔:银汞合金,

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