1、,离子注入机简介,2, 离子注入机的种类,3,6200、NV10160、10180、10160SD简介离子注入机按照真空系统分为三个部分SOURCEBEAM LINEEND STATION,4,各部分包括的控制器,5, 离子注入的原理 离子源产生的离子在吸极电压的作用下形成束流，以一定的速度进入分析器磁场后受到洛仑磁力发生偏转，选出我们所需的离子，通过加速高压的作用获得一定的能量，离子通过透镜的聚焦后，以一定的扫描方式打入硅片。,6, 离子源的工作原理 当离子源的灯丝通过足够大的直流电流时，灯丝受热后发射的热电子在ARC 电压、源磁场的共同作用下做螺旋状运动与工艺气体碰撞后，工艺气体发生电离产
2、生离子。,7, 质量分析器洛仑磁力： F=qvB R=mv/qB带电粒子进入磁场受到力的作用后发生偏转。 11B+、 31P+、 40Ar+、 75As+、 121Sb+350D：先分析后加速。NV1080：先加速后分析。,8, Q-LENS 静电四极透镜静电四极透镜：对离子进行聚焦作用。加速后的离子在Q-LENS静电四极透镜的作用下被聚焦成较小的束斑。,9, FARADAY SYSTEMFARADAY的作用是测量束流，通过DOSE控制器精确地计量注入到硅片上的剂量。BEAM SETUP：束流打在FLAG FARADAYIMPLANT：束流打在END STATION（350D） 束流打在DISK （NV1080）,10,谢谢！2006.8.2,
