表面反应在半导体光催化水分解过程中的重要性.doc

表面反应在半导体光催化水分解过程中的重要性常晓侠，巩金龙天津大学化工学院，绿色合成与转化教育部重点实验室，天津化学化工协同创新中心，天津3000727uom.*ssp luaunoTime/h 00.00.20.40.6Potential/V (vs NHE)1412108 6 4 20020406080100Time/h(uns-0 M!su(D.g6I_I .8.6.4.2.0 1.0.0.0.0.0.o o o o4 3 2 1(？EOE)/.SU9P-uauno0.1 mol L-1KOH 1.23 V (vs RHE) d2 0 8 6 4 2 1.1O.O.O.O. G EPVUO/XJISSP moqd(iii) ZnO/7a2O5, without AM 1.5G filter(i) ZnO/Ta2O5, simulated AM 1 5G(ii) ZnO, simulated AM 1.5G012345Time/h