多晶硅用氢气中痕量磷杂质的测定气相色谱法（讨论稿）编制说明一、工作简况1 项目背景和立项意义随着行业内多晶硅质量的不断提升，生产系统对于各种物料的质量波动变得尤为 敏感。其中的主要生产原料氢气的质量更是直接制约多晶硅内在质量的主要因素之一。磷作为多晶硅中的主要施主杂质，其含量的高低直接影响到多晶硅品质，氢气是多晶硅生产中主要的和用量最大的原料之一，氢气中的磷杂质含量会带入到多晶硅中， 目前氢气质量的检测主要依据GB/T 16942-2009 电子工业用气体氢和GB/T 3634.2-2011 氢气 第 2 部分：纯氢、高纯氢和超纯氢进行质量控制，控制项目是氮、氩、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、总烃、水分等杂质含量，没有对磷杂质进行控制，也无相关检测方法，随着半导体和光伏行业对多晶硅的要求越来越高，为提升多晶硅品质，急需建立一种氢气中磷杂质含量的检测方法。目前国内外多家多晶硅生产企业都是采用改良西门子法生产多晶硅，产品中的磷杂质的主要来源主要有氯硅烷和氢气，准确检测氢气中的磷含量，为生产控制提供数据支持，对提升多晶硅产品质量
