“浙江师范大学-LED芯片研发中心”超净室设备采购清单序号项目名称设备、材质及工程技术要求性能要求主要技术指标1气体供应 及防护系统一、总体功能描述：气体供应及防护系统是为PECVD和TCP设备安全供应气体，保证PECVD和TCP设备的正常使用，对工艺尾气作处理，并实现远程监控与报警。二、需供气体及要求1.TCP刻蚀设备需供气体及要求a. Cl2：气压：1 kg/cm2，最大：100 sccm，纯：4N管径：1/4 VCR Male，管材：SUS316b. BCl3：气压：1 kg/cm2，最大：100 sccm，純：4N管径：1/4 VCR Male，管材：SUS316c. He：气压：1 kg/cm2，最大：30 sccm，純：4NCHF3：气压：1 kg/cm2，最大：500 sccm，純：4N管徑：1/4 VCR Male，管材：SUS316d. Ar，N2，O2：气压：1 kg/cm2，最大：200 sccm，純：4N管径：1/4 VCR
