.三、峰形问题 峰形对称性的优劣对峰面积和分离度有很大的影响，从而影响分析结果的准确性。引起峰形异常的因素很多，柱外死体积引起峰形异常有个特点：对先出的峰影响大，对后出峰影响小；柱头塌陷、柱头和筛板污染会引起所有的峰形都异常，而硅醇基次级保留只引起部分峰拖尾。相塌陷除了引起保留下降外，也会造成峰拖尾。色谱实践中，大部分的峰形问题都不是色谱柱的问题，仪器参数设定、色谱条件和方法正确与否对峰形有很大影响。1.峰后拖常见的3种拖尾情况：次级保留引起峰拖尾的机理解析：反相色谱中，通常非极性和弱极性的化合物能获得良好的峰形，而带有COOH、NH2、NHR、NR2等极性基团的化合物则比较容易产生拖尾，原因是硅胶表面残留硅羟基对极性和碱性样品分子产生次级保留效应。 反相填料表面有残余的硅羟基，具有一定的酸性，其pKa约为4.54.7。根据电离规律，流动相的pHpKa2即pH6.7时，99以上的硅羟基应该是呈离子状态的，即SiO ，而pKapH2即pH2.5时，酸性环境抑制了硅羟基的电离，99以上的硅羟基应该是呈
