UV光氧化工艺基本工作原理.doc

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.UV光氧化工艺基本工作原理:光氧化是常温下深度光降解技术。该技术通过特定波长的UV激发光源产生不同能量的光量子,废气物质分子在大量携能光量子的轰击下解离;空气中的氧气和水分及外加的臭氧在该光量子的(分解)作用下可产生大量的新生态氢、活性(游离)氧和羟基氧等活性基团;因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧,臭氧对紫外线光束照射分解后的有机物具有极强的氧化作用;部分废气物质也能与活性基团反应,最终降解转化为低分子化合物、CO2和H2O 等无害物质,无二次污染物的产生,从而达到净化废气的目的。有机废气微波+光解O2O-+O(活性氧)O+O2O3CO2+H2O(达标排放)低温等离子废气处理设备工作原理:低温等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第四态,当外加电压达到气体的放电电压时,气体被击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在内的混合体。放电过程中虽然电子温度很高,但重粒子温度很低,整个体系呈现低温状态,所以称为低温等离子体。低温等离子体降解污染物是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生

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