任务书姓名： 学院： 轻工学院班级： 专业： 印刷工程毕业设计（论文）题目：SiO2与TiO2光学薄膜的制备及其椭偏测量立题目的和意义：随着薄膜技术在信息存储、电子元器件、航天技术以及光学仪器等方面的越来越广泛的应用,光学薄膜的光学参数(折射率n、吸光系数k和薄膜厚度d)的准确测量逐渐成为薄膜研究的重要方向。本文采用椭圆偏振测量的方法测量光学薄膜的性能，主要是因为椭圆偏振仪测量过程中具有非接触、非破坏性、测量精度高等优点。在光学薄膜中，性能比较优异的薄膜是SiO2、TiO2光学薄膜，它们具有非常高的化学稳定性和机械强度性能。因此，本文选择这两种薄膜，通过溶胶-凝胶、浸渍提拉法来制备薄膜，然后用椭圆偏振法测量这两种光学薄膜的参数性能。技术要求与工作计划： 1. 完成与毕业论文题目相关的文献综述一篇，不少于5000字。 2. 完成外文文献翻译一篇，不少于3000字。 3. 完成开题报告一份。 4. 按照计划，根据确定的实验方案开展实验，内容充实。 5. 采用正确的实验方法，要求技术操作熟练，数据真实可靠，确定最佳制备方法和测量方法。
