泓域咨询 /xx市光刻胶项目工业用地申请报告目录一、 核心人员介绍3二、 项目名称及投资人4三、 项目建设背景5四、 结论分析5五、 市场分析6六、 项目工程设计总体要求9七、 产业发展方向9八、 董事12九、 环境影响合理性分析16十、 员工技能培训16十一、 预期效果评价17十二、 项目总投资17总投资及构成一览表17十三、 资金筹措与投资计划18项目投资计划与资金筹措一览表18十四、 经济评价财务测算19十五、 项目风险分析风险分析22十六、 项目招标依据22十七、 总结22报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过
