材料现代分析方法试题 一、基本概念题（共 10题，每题 5分） 1什么是光电效应？光电效应在材料分析中有哪些用途？ 2当波长为的X射线在晶体上发生衍射时，相邻两个（hkl）晶面衍射线的波程差是多少？相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少？ 3测角仪在采集衍射图时，如果试样表面转到与入射线成 30 0角，则计数管与入射线所成角度为多少？能产生衍射的晶面，与试样的自由表面是何种几何关系？ 4宏观应力对 X射线衍射花样的影响是什么？衍射仪法测定宏观应力的方法有哪些？ 5薄膜样品的基本要求是什么? 具体工艺过程如何? 双喷减薄与离子减薄各适用于制备什么样品? 6图说明衍衬成像原理，并说明什么是明场像、暗场像和中心暗场像。 7说明透射电子显微镜成像系统的主要构成、安装位置、特点及其作用。 8何为晶带定理和零层倒易截面? 说明同一晶带中各晶面及其倒易矢量与晶带轴之间的关系。 9含苯环的红外谱图中，吸收峰可能出现在哪4个波数范围? 10陶瓷纳米/微米颗粒的红外光谱的分析样品该如何制，为什么？
