泓域咨询 /xx区匀胶铬版项目规划方案xx区匀胶铬版项目规划方案报告说明匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。根据谨慎财务估算，项目总投资34837.94万元，其中：建设投资25696.60万元，占项目总投资的73.76%；建设期利息281.08万元，占项目总投资的0.81%；流动资金8860.26万元，占项目总投资的25.43%。项目正常运营每年营业收入74300.00万元，综合总成本费用61377.96万元，净利润9447.62万元，财务内部收益率19.91%，财务净现值11775.17万元，全部投资回收期5.81年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其
