真空镀铝薄膜概述及工艺18页.doc

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资源描述

真空镀铝薄膜概述及工艺一、概述真空蒸镀金属薄膜是在高真空(104mba以上)条件下,以电阻、高频或电子束加热使金属熔融气化,在薄膜基材的表面附着而形成复合薄膜的一种工艺。被镀金属材料可以是金、银、铜、锌、铬、铝等,其中用的最多的是铝。在塑料薄膜或纸张表面镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜或镀铝纸。用于包装上的真空镀铝薄膜具有以下特点:(1)和铝箔相比大大减少了铝的用量,节省了能源和材料,降低了成本。复合用铝箔厚度多为79um,而镀铝薄膜的铝层厚度约为400(0.04um)左右,其耗铝量约为铝箔的1/200,且生产速度可高达700mmin。(2)具有优良的耐折性和良好的韧性,很少出现针孔和裂口,无揉曲龟裂现象,对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。(3)具有极佳的金属光泽,光反射率可达97;且可以通过涂料处理形成彩色膜,其装潢效果是铝箔所不及的。(4)可采用屏蔽或洗脱进行部分镀铝,以获得任意图案或透明窗口,能看到包装的内容物。(5)镀铝层导电性能好,能消除静电效应,尤其包装粉末状产品时,不会污染封口部分,保证了包装的密封性能。(6)对印刷、复

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