泓域咨询/匀胶铬版项目财务分析匀胶铬版项目财务分析xxx(集团)有限公司一、 项目背景分析匀胶铬版是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点,当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。二、 项目名称及投资人(一)项目名称匀胶铬版项目(二)项目投资人xxx(集团)有限公司(三)建设地点本期项目选址位于xx(以最终选址方案为准)。三、 结论分析(一)项目选址本期项目选址位于xx(以最终选址方案为准),占地面积约26.00亩。(二)项目实施进度本期项目建设期限规划12个月。(三)投资估算
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