半导体与晶体薄膜的XRD 测量实验报告学 院 数理与信息工程学院 专 业 物理学 课 程 近代物理实验 姓 名 阮柳晖 学 号 09180229 组 员 王健華 指导老师 斯劍霄完成时间：2012年5月27日【摘要】： 利用Y 2000型X 射线衍射仪，对不同衬底所镀晶体薄膜进行XRD 测量，利用测量出的衍射峰，可以较好地分析薄膜晶面在不同温度下的生长趋势，从而帮助获得较高纯度的晶体薄膜。此外，利用各衍射峰的半高宽，可以获得相关晶体所对应的密勒指数下的晶粒大小，并对不同温度相同晶面的晶粒大小进行比较分析。【关键词】：XRD 测量 衍射峰 晶体薄膜 半高宽 晶粒大小【引言】： 自从伦琴于1895 年发现X 射线以来，人们对X 射线的应用开展了深入的研究。X 射线衍射技术是利用X 射线在晶体、非晶体中衍射与散射效应，进行物相分析、结构类型和不完整性分析的技术，可广泛应用于物理学、化学、分子物理学、医学、金属学、材料学、高分子科学、工程技术学、地质学、矿物学等学科领域，是目前应用最广泛的一项技术，在材料现代分析方法中占有重要的地位。XRD 主要应用于定性相
