华宏半导体新员工光刻工艺培训测试题1页.doc

2005年新员工PR设备培训测试题部门： 姓名： 工号：一 填空题：1. PR用于 （中文或英文均可），广义上指 （英文）工艺。 2. 通常所说的PR工艺是指 ， 和 及检查工艺。3. 光刻机用于把 上的图形暴光到硅片上去。4. 投影式光刻机按发展阶段可分为 式光刻机， 式光刻机和_式光刻机。5. 涂胶机中的AD 单元用 物质对硅片表面进行处理，使硅片表面从 变成 。6. 涂胶机中的HP单元用于涂胶后硅片的 ，以去除光刻胶中的 。7. 显影机中的WEE单元称为 单元。8. 显影机的显影液配管系统中的脱气系统用于排除显影液中混有的 。9. SEM的中文名为