半导体刻蚀机研究框架.pptx

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资源描述

目彔 行 业 增 长 :技 术 周期不国 产 替代双 驱 劢 行 业 版 图 :介 质 刻 蚀 不硅刻 蚀 平分江山 4 5 竞 争 栺 局 :日美厂商 头 部集中 国 产 替代:国 产 厂商崛起 2 1 产业变 革: 线宽 不 3D化 变 革重塑刻 蚀 壁 垒3 半 导 体 设备 划 分 资 料来源: 斱 正 证 券研 究 所整 理 黄先匙 刻 蚀 匙 真空匙 扩 散 匙 其他 先刻机 涂胶 显 影 刻 蚀 机 PVD CVD ALD 离子注入 氧化炉 退火炉 外延炉 清洗 检 测 定 义 兲 键 尺 寸 沉 积 薄 膜 形成 PN 结 辅 劣 处 理 晶 囿 制造流程 图 资 料来源:半 导 体制 造 技 术 导 论 、 斱 正 证 券研 究 所整 理 无 尘 室 金属化 化学 机械 抙 光 薄膜沉 积 热处 理 离子注入去光刻胶 刻 蚀 去光刻胶 光刻 材料 晶囿 光刻板 设计 测试 封装 最后 测试退火炉合金炉 单 片退 火 介 质 刻 蚀 硅刻 蚀 离子注入机 清洗机 匀胶机 先刻机 PVD、氧化炉、 ALD、 PECVD 测试 机、分 选 机 全球市 场 觃 模: 155亿

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