利用循环伏安确定反应是否为可逆反应1.氧化峰电流与还原峰电流绝对值相等，即二者绝对值比值始终为一，与扫描速率，换向电势，扩散系数无关。2.氧化峰与还原峰电位差约为59mV利用循环伏安确定反应是否为可逆反应1.氧化峰电流与还原峰电流之比的绝对值等于12.氧化峰与还原峰电位差约为(59/n)mV (25摄氏度时)一般这两个条件即可判断扩散反应或者是吸附反应：改变扫描速率，看峰电流是与扫描速率还是它的二次方根成正比,若是与扫描速率成线性，就是表面控制过程,与二次方根成线性，就是扩散控制利用循环伏安确定反应是否可逆1：氧化峰和还原峰的电流比是否相等，若相等则可逆。 有时对同一体系，扫描速率不同也会在一定程度上影响其可逆性的 一般而言，扫速越大其电化学反应电流也就越大。2：氧化峰和还原峰电位差等于59/nmV,若大于，则是准可逆体系。这种确定onset potential的方法的依据是什么呢？我看有的文献上直接是作一条切线，但这样误差也很大，很主观随意。以前我们老师上电极过程动力学的时候说准确的onset potential其实是很难被确定的。只能估计
