数字集成电路复习笔记(共34页).docx

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数集复习笔记By 潇然2018.6.29名词解释专项摩尔定律:一个芯片上的晶体管数目大约每十八个月增长一倍。传播延时:一个门的传播延时tp定义了它对输入端信号变化的响应有多快。它表示一个信号通过一个门时所经历的延时,定义为输入和输出波形的50%翻转点之间的时间。由于一个门对上升和下降输入波形的响应时间不同,所以需定义两个传播延时。tpLH定义为这个门的输出由低至高翻转的响应时间,而tpHL则为输出由高至低翻转的响应时间。传播延时tp定义为这两个时间的平均值:tp=(tpLH+tpHL)/2。设计规则:设计规则是指导版图掩膜设计的对几何尺寸的一组规定。它们包括图形允许的最小宽度以及在同一层和不同层上图形之间最小间距的限制与要求。定义设计规则的目的是为了能够很容易地把一个电路概念转换成硅上的几何图形。设计规则的作用就是电路设计者和工艺工程师之间的接口,或者说是他们之间的协议。速度饱和效应:对于长沟MOS管,载流子满足公式: = -(x)。公式表明载流子的速度正比于电场,且这一关系与电场强度值的大小无关。换言之,载流子的迁移率是一个常数。然而在(水平方向

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