xx县匀胶铬版项目核准申请(模板范本).docx

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泓域咨询 /xx县匀胶铬版项目核准申请xx县匀胶铬版项目核准申请xx集团有限公司报告说明匀胶铬版是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点,当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。根据谨慎财务估算,项目总投资35612.89万元,其中:建设投资28436.07万元,占项目总投资的79.85%;建设期利息345.06万元,占项目总投资的0.97%;流动资金6831.76万元,占项目总投资的19.18%。项目正常运营每年营业收入62800.00万元,综合总成本费用51452.39万元,净利润8288.54万元,财务内部收益率17.0

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