xx市匀胶铬版项目设计方案（范文）.docx

泓域咨询 /xx市匀胶铬版项目设计方案目录一、 项目背景分析3二、 项目概述3三、 项目提出的理由3四、 研究结论3五、 主要经济指标一览表4主要经济指标一览表4六、 建设规模及主要建设内容5七、 建设方案6八、 项目选址原则6九、 监事6十、 防范措施7十一、 节能综合评价12十二、 项目实施保障措施13十三、 企业技术研发分析13十四、 项目总投资16总投资及构成一览表17十五、 资金筹措与投资计划17项目投资计划与资金筹措一览表18十六、 经济评价财务测算18十七、 项目风险对策20十八、 项目招标范围22十九、 总结22一、 项目背景分析匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。二、