泓域咨询 /光刻胶项目建设资金申请报告报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，显示面板、晶圆、PCB板、MEMS微机电装置的制造过程中有广泛的应用。根据谨慎财务估算，项目总投资15208.62万元，其中：建设投资11963.37万元，占项目总投资的78.66%；建设期利息126.91万元，占项目总投资的0.83%；流动资金3118.34万元，占项目总投资的20.50%。项目正常运营每年营业收入27500.00万元，综合总成本费用21411.60万元，净利润4455.84万元，财务内部收益率22.11%，财务净现值5145.72万元，全部投资回收期5.48年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。综上所述，本项目能够充分利用现有设施，属于投资合理、见效快、回报高项目；拟建项目交通条件好；供电供水条件好，因而其建设条件有明显优势。项目符合国家产业发展的战略思想，有利于行业结构调整。目录一、 项目背景分析5二、 市场分析5
