泓域咨询 /光刻胶项目建设方案报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，显示面板、晶圆、PCB板、MEMS微机电装置的制造过程中有广泛的应用。根据谨慎财务估算，项目总投资26578.59万元，其中：建设投资20796.26万元，占项目总投资的78.24%；建设期利息423.53万元，占项目总投资的1.59%；流动资金5358.80万元，占项目总投资的20.16%。项目正常运营每年营业收入59800.00万元，综合总成本费用44587.18万元，净利润11162.75万元，财务内部收益率32.19%，财务净现值28133.15万元，全部投资回收期5.03年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。通过分析，该项目经济效益和社会效益良好。从发展来看公司将面向市场调整产品结构，改变工艺条件以高附加值的产品代替目前产品的产业结构。目录一、 项目概述4二、 项目提出的理由4三、 研究结论4四、 主要经济指标一览表4主
