泓域咨询 /光刻胶项目研究分析报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，显示面板、晶圆、PCB板、MEMS微机电装置的制造过程中有广泛的应用。根据谨慎财务估算，项目总投资32893.14万元，其中：建设投资25051.19万元，占项目总投资的76.16%；建设期利息502.16万元，占项目总投资的1.53%；流动资金7339.79万元，占项目总投资的22.31%。项目正常运营每年营业收入72900.00万元，综合总成本费用58838.79万元，净利润10278.52万元，财务内部收益率22.31%，财务净现值12065.25万元，全部投资回收期5.90年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本项目生产所需的原辅材料来源广泛，产品市场需求旺盛，潜力巨大；本项目产品生产技术先进，产品质量、成本具有较强的竞争力，三废排放少，能够达到国家排放标准；本项目场地及周边环境经考察适合本项目建设；项目产品畅销，经济效益好，抗风险能力强，社会效益显著，
