泓域咨询 /光刻胶项目立项核准报告报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，显示面板、晶圆、PCB板、MEMS微机电装置的制造过程中有广泛的应用。根据谨慎财务估算，项目总投资26007.03万元，其中：建设投资20994.11万元，占项目总投资的80.72%；建设期利息226.45万元，占项目总投资的0.87%；流动资金4786.47万元，占项目总投资的18.40%。项目正常运营每年营业收入43200.00万元，综合总成本费用32406.78万元，净利润7912.69万元，财务内部收益率24.84%，财务净现值14844.23万元，全部投资回收期5.14年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本期项目技术上可行、经济上合理，投资方向正确，资本结构合理，技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的。目录一、 项目名称及投资人4二、 项目建设背景4三、 结论分析5四、 建
