泓域咨询 /光刻胶项目审批申请报告说明光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，显示面板、晶圆、PCB板、MEMS微机电装置的制造过程中有广泛的应用。根据谨慎财务估算，项目总投资28668.56万元，其中：建设投资23653.96万元，占项目总投资的82.51%；建设期利息576.48万元，占项目总投资的2.01%；流动资金4438.12万元，占项目总投资的15.48%。项目正常运营每年营业收入53300.00万元，综合总成本费用41870.27万元，净利润8358.62万元，财务内部收益率21.78%，财务净现值8636.44万元，全部投资回收期5.82年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。本期项目技术上可行、经济上合理，投资方向正确，资本结构合理，技术方案设计优良。本期项目的投资建设和实施无论是经济效益、社会效益等方面都是积极可行的。目录一、 项目实施的必要性3二、 市场分析3三、 项目名称及项目单位6四、 项
