薄膜物理与技术B卷试题参考答案及评分细则一、名词解释：（本题满分12分，每小题3分）1、瞬时蒸发法瞬时蒸发法是指将细小的合金颗粒，逐次送到非常炽热的蒸发器或坩锅中，使一个一个的颗粒实现瞬间完全蒸发。（3分）2、溅射溅射是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子（或分子）从表面射出的现象。（3分）3、活性反应离子镀活性反应离子镀是指在离子镀过程中，在真空室中导入能和金属蒸气起反应的气体（1分），并用各种放电方式使金属蒸气和反应气体的分子、原子激活离化（2分），促进其间的化学反应，在基片表面上获得化合物薄膜的方法（3分）。4、成核速率成核速率是指单位时间内在单位基体表面上形成稳定核的数量。（3分）二、简答题：（本题满分88分）1、什么叫真空？典型的真空系统由哪些部分组成？（5分）答：真空是指低于一个大气压的气体空间。（1分）典型的真空系统应包括：待抽空的容器（真空室）、获得真空的设备（真空泵）、测量真空的器具（真空计）以及必要的管道、阀门和其他附属设备。（4分）2、简述磁控溅射的工作原理。（7分）答
