泓域咨询 /匀胶铬版项目备案申请报告说明匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。根据谨慎财务估算，项目总投资41183.37万元，其中：建设投资32914.70万元，占项目总投资的79.92%；建设期利息829.51万元，占项目总投资的2.01%；流动资金7439.16万元，占项目总投资的18.06%。项目正常运营每年营业收入73200.00万元，综合总成本费用56537.67万元，净利润12208.45万元，财务内部收益率22.72%，财务净现值18048.98万元，全部投资回收期5.75年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值良好，投资回收期合理。通过分
