泓域咨询 /匀胶铬版项目规划设计方案匀胶铬版项目规划设计方案报告说明匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料（相当于照相用的感光胶卷）。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射（SP）沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂（又称光刻胶）或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点，当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。根据谨慎财务估算，项目总投资7886.01万元，其中：建设投资6099.39万元，占项目总投资的77.34%；建设期利息82.77万元，占项目总投资的1.05%；流动资金1703.85万元，占项目总投资的21.61%。项目正常运营每年营业收入16700.00万元，综合总成本费用14394.38万元，净利润1679.41万元，财务内部收益率14.11%，财务净现值355.28万元，全部投资回收期6.55年。本期项目具有较强的财务盈利能力，其财务净现值
