苏州科技学院本科生毕业设计（论文）磁控溅射制备铝薄膜摘 要铝金属具有良好的导电性、导热性、耐腐蚀性、吸引性及耐核辐射性等优良性质，并且具有良好的光电性能等优良性质。其优异的光学性质和电学性质，使得铝薄膜在微电子电路、薄膜电路和光学薄膜中被广泛应用。目前，铝薄膜的研究主要有两个方面：一方面研究超薄铝薄膜的光学特性和电性能；另一方面研究铝薄膜在制备多层薄膜中的作用。本设计利用磁控溅射法来制备铝薄膜，并通过对工作气压以及溅射温度的控制来研究这些参数条件对铝薄膜折射率以及其微观结构的影响。利用椭圆偏振测厚仪来测量薄膜折射率，用原子力显微镜以及金相显微镜来观测铝薄膜的表面形貌以及颗粒大小等。从数据的分析中得到工作气压以及基片温度与铝薄膜的复折射率和表面形貌的关系。实验结果表明：随着工作气压的增大，薄膜沉积速率先变大后减小；随着基片温度升高，薄膜粗糙度上升，颗粒变大。关键词：磁控溅射；铝薄膜；微结构；表面形貌Magnetron sputtering thin film of aluminumAbstractAluminum
