基于H94-25C型光刻机的铝光刻工艺研究摘 要光刻技术是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形工艺技术。目前，随着半导体市场的增长速度不断加快，而且半导体产业对现代经济、国防和社会也产生了巨大的影响，集成电路产业之所以能飞速发展，光刻技术的支持起到了极为关键的作用。因为它直接决定了单个器件所能达到的最小物理尺寸。本论文开始介绍了光刻工艺中所用到的设备和实验相关的材料说明。然后具体叙述了整个光刻工艺的流程和具体实验步骤，包括：表面处理，涂胶，前烘，对准和曝光，后烘，显影，坚膜，检查。以及最后光刻完成后的淀积工艺。本次实验通过实验结果分析对比不同曝光时间下的图形效果，不同显影时间下的图形效果，分析解决光刻工艺中所遇到的问题。最后整理实验数据，对所遇到的异常情况进行分析，调整工艺菜单的参数，最终得到完整的工艺流程参数，改进优化工艺步骤。关键词：光刻技术，光刻机，光刻胶Study on Aluminum Lithography Process Using H94-25C Mas
