精选优质文档-倾情为你奉上一、选择题。1. 电离后向半导体提供空穴的杂质是( A ),电离后向半导体提供电子的杂质是( B )。A. 受主杂质 B. 施主杂质 C. 中性杂质2. 在室温下,半导体Si中掺入浓度为的磷杂质后,半导体中多数载流子是( C ),多子浓度为( D ),费米能级的位置( G );一段时间后,再一次向半导体中掺入浓度为的硼杂质,半导体中多数载流子是( B ),多子浓度为( E ),费米能级的位置( H );如果,此时温度从室温升高至,则杂质半导体费米能级的位置( I )。(已知:室温下,;时,)A. 电子和空穴 B. 空穴 C. 电子 D. E. F. G. 高于 H. 低于 I. 等于 3. 在室温下,对于n型硅材料,如果掺杂浓度增加,将导致禁带宽度( B ),电子浓度和空穴浓度的乘积( D ),功函数( C )。如果有光注入的情况下,电子浓度和空穴浓度的乘积
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