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精选优质文档-倾情为你奉上生产实习报告 专 业: 班 级: 学 号: 姓 名: 指导教师: 李跃进 丁瑞雪 李娅妮 实习时间: 分组情况： 第 大组 第 小组 一 工艺原理1 氧化 半导体工艺中的二氧化硅大多数是通过热生长氧化法得到的，也就是让硅片（晶圆）在高温下，与氧化剂发生反应而生长一层SiO2膜的方法，其化学反应式如下： Si(固态)+O2(气态) SiO2(固态) 化学反应非常简单，但氧化几理并非如此，因为一旦在硅表面有二氧化硅生成，它将阻挡O2原子与Si原子直接接触，所以其后的继续氧化是O2原子通过扩散穿过已生成的二氧化硅层，向Si一侧运动到达界面进行反应而增