真空镀膜实验(共3页).doc

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精选优质文档-倾情为你奉上高真空的获得、测量与镀膜实验一、 实验目的:1 了解真空技术的基本知识,以真空镀膜机为例,掌握高真空的获得与测量的基本原理及方法。2 学习掌握在玻璃基片上溅镀单层高反射金属膜的原理和操作方法。3 了解利用干涉法测量薄膜厚度的基本方法。二、 实验仪器:JGP560B1型超高真空多功能磁控溅射镀膜实验系统设备一套(包括机械泵、分子泵、热耦真空计和电离真空计等)。三、 实验原理:真空是指低于1个大气压的气体空间。真空容器中的真空度是用气体的压强表示,真空度愈高,气体压强愈低,气体分子愈稀少。(真空的划分区域见讲义P155)真空技术被广泛用于工业生产、科学实验和近代尖端技术中,是高新技术领域中的关键手段之一。本实验采用JGP560B1型超高真空多功能磁控溅射镀膜设备,它包括下述三大部分:1 真空的获得(真空系统)本实验高真空获得分两步实现。首先由机械泵通过不断改变泵内吸气空腔的容积而赶走气体的方法,把系统的真空度从大气压开始抽到20Pa左右的低真空;在此基础上,启动分子泵使其开始工作,涡轮分子泵利用高速

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