精选优质文档-倾情为你奉上原子力显微镜对薄膜样品的测量向超宇复旦大学光科学与工程系 摘要：实验应用原子力显微镜（AFM）测量了标准样品和RF磁控溅射制备的Fe掺杂SiO2薄膜，得到了样品的表面图样。从范德华力的作用原理解释了标准样品百分差产生的原因；从溅射工艺的角度解释了两片溅射薄膜的表面形态的不同，并比较了AFM测定与椭圆偏振仪测定的粗糙层厚度不同的原因。关键词：AFM 表面形态 范德华力 溅射工艺专心-专注-专业引言 AFM是研究材料表面的重要手段。它通过将一尖锐针尖装在一个对微弱力非常敏感的微悬臂上，并使之与待测样品表面有种形式的力接触，通过压电陶瓷三维扫描控制器驱动针尖或样品进行相对扫描，从而获得样品表面图样。这种力接触，在轻敲模式中主要是范德华力，由于范德华力与材料有关，因此能够揭示样品表面的化学不均匀性。通过AFM，能够检测样品表面硬度、表面厚度以及断裂化学键或粘附所需要力的大小【1】。 溅射是一种物理沉积过程，通过高能粒子（包括高能电子、离子、中子等）轰击靶面，使靶面上的原子分子溅射
