精选优质文档-倾情为你奉上OLED器件制作的主要步骤 器件制作包括：ITO/Cr 玻璃清洗光刻再清洗前处理真空蒸发多层有机层(4-5 层)真空蒸发背电极真空蒸发保护层封装切割测试模块组装产品检验、老化实验以及QC 抽检工序ITO 的洗净及表面处理作为阳极的ITO 表面状态好坏直接影响空穴的注入和与有机薄膜层间的界面电子状态及有机材料的成膜性。如果ITO 表面不清洁，其表面自由能变小，从而导致蒸镀在上面的空穴传输材料发生凝聚、成膜不均匀。通常先对ITO 表面用湿法处理，即用洗涤剂清洗，再用乙醇，丙酮及超声波清洗或用有机溶剂的蒸汽洗涤，后用红外灯烘干。洗净后对ITO表面进行活化处理，使ITO 表面层含氧量增加，以提高ITO 表面的功函数，也可以用过氧化氢处理ITO 表面，用比例为水：双氧水：氨水=5：1：1 的混合溶液处理后,使OLED 器件亮度提高一个数量级。因为过氧化氢处理会使ITO 表面过剩的锡含量减少而氧的比例增加，使ITO 表面的功函数增加从而增加空穴注入的几率。紫外线-臭氧和等
