北工大半导体物理历年真题(共12页).doc

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精选优质文档-倾情为你奉上历年真题第一章1、Si、GaAs半导体材料的导带底、价带顶分别在k空间什么位置?其晶体结构和解理面分别是什么?哪个是直接带隙,哪个是间接带隙?(2006)2、对于金刚石结构的硅Si和闪锌矿结构的砷化镓GaAs,在(111)晶面上,其原子面密度和面间距都是最大,为什么Si的解理面是(111),而GaAs不是?(2007) 3、半导体材料的禁带宽度Eg、N型半导体杂质激活能Ed以及亲和势X分别表示半导体电子的什么状态特性?(2009年简答题7分)4、与真空电子运动相比,半导体中电子的运动有何不同?(2009年简答题7分)(1-9题 63分,每小题7分(2010))5、如图是一个半导体能带结构的Ek关系;1)哪个能带具有x方向更小的有效质量?2)考虑两个电子分别位于两个能带中的十字线处,哪个电子的速度更大些?6、写出硅(Si)和砷化镓(GaAs)的晶体结构、禁带宽度和解理面。?(2011年简答题6分)第二章3、高阻的本征半导体材料和高阻的高

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