精选优质文档-倾情为你奉上TFT5次光刻背沟道刻蚀型与保护型工艺-半导体技术2008年12期 本文献来源 5次光刻工艺(简称5PEP)是一种新的研究,分为背沟道刻蚀型和背沟道保护型。5PEP改变了TFT结构和原理,相对于常用的7 PEP可缩短生产周期,减少使用设备,提升成品率,降低成本。研究制定了背沟道刻蚀型与背沟道保护型5PEP的主要工序步骤,并通过50.8 mm液晶屏多次小批量投产进行试验。探讨了刻蚀型5PEP中a-Si岛刻蚀不良、SiNx刻蚀跨断等问题。取得合理的工艺参数,使5PEP能应用于小尺寸液晶屏的TFT量产。【作者单位】：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;中国科学院长春方圆光电技术有限责任公司;中国科学院研究生院【关键词】：薄膜晶体管;5次光刻;背沟道刻蚀型;背沟道保护型;a-Si岛【分类号】：TN305.7【DOI】：CNKI:SUN:BDTJ.0.2008-12-008【正文快照】：0引言在TFT-LCD中,TFT的功能相当于一个开关管。常用的TFT是三端器件,一般在玻璃基板上制作半
