光催化技术的简述(共4页).docx

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精选优质文档-倾情为你奉上光催化技术的简述摘要:随着社会的发展,高楼大厦也越来越多,擦窗工也成了一项高危职业。然而光催化技术就能实现自我清洁。当一定波长的光照射到光催化剂上时,光催化剂的价带电子发生带间跃迁,从而产生光生电子和空穴。此时吸附在光催化剂表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将绝大多数的有机物氧化至最终产物CO2和H2O,甚至对一些无机物也能彻底分解。关键词:半导体、光催化技术、自我清洁1. 去除有机物的传统方式催化燃烧是借助催化剂在低温下(200400)下,实现对有机物的完全氧化。因此在有机废气特别是回收价值不大的有机废气净化方面应用较广。但催化燃烧法也有一定的缺点。催化燃烧装置的内部温度高,耗能大,并且有一定的危险。化学氧化法也是传统去除有机物的一种应用很广的方法。其原理是就是用强氧化剂对目标物进行氧化,从而达到去除有机物的目的。这种方法反应温和容易控制,但是反应效率不高,并且强氧化剂价格昂贵,无法大量使用。生物

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