高纯硅的制备(共2页).doc

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精选优质文档-倾情为你奉上高纯硅的制备一般首先由(SiO2)制得工业硅(粗硅),再制成高纯的,最后拉制成硅单晶。 工业上是用(SiO2)和以一定比例混合,在中加热至16001800而制得纯度为95%99%的粗硅,其反应如下:SiO2+2C=Si+2CO粗硅中一般含有铁、铝、碳、硼、磷、铜等杂质,这些杂质多以硅化构成的形式存在,为了进一步提高工业粗硅的纯度,可采用酸浸洗法,使杂质大部分溶解(有少数的不溶)。其生产工艺过程是:将粗碎后,依次用盐酸、(HF+H2SO4)混合酸处理,最后用洗至中性,烘干后可得含量为99.9%的工业粗硅。 高纯的制备方法很多,据布完全统计有十几种,但所有的方法都是从工业硅(或称,因为含铁较多)开始,首先制取既易提纯又易分解(即还原)的含硅的中间化合物如SiCl4、SiHCl3、SiH4等,再使这些中间化合物提纯、分解或还原成高纯度的目前我国制备高纯硅多晶硅主要采用氢还原法、热解法和四氢还原法。一般说来,由于还原法具有一定优点,目前比较广泛的被应用。此外,由于SiH4具有易提纯的特点,因此热分解法是制备高纯硅的很

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