精选优质文档-倾情为你奉上蒸发真空镀膜厚度光密度的检测一般来说蒸发真空镀膜就是将靶材在真空的环境下加以高温，使其以原子团或者离子的形式被蒸发出来，然后在将基片防于真空仓中让这些原子团或离子沉淀在基片之上，在沉淀的过程中我们还能通过我们的需要来改变靶材的沉淀情况。在线测厚仪能在真空镀膜生产的过程中进行镀膜厚均匀性的监测，选择真空镀膜就是想要在基片上均匀的镀上膜，靶材厚度的均匀性就决定了镀膜的品质。镀膜生产过程中我们可以使用透光率光密度检测仪来进行在线测试，通过光谱里的红外线透过率、紫外线透过率以及可见光穿透率来进行监控感应镀膜的均匀性。那么具体影响基片上的靶材厚度是否均匀的因素有哪些呢？首先对基片上的膜厚度就算是同一种物质都会出现分子结构不同的情况，而真空镀膜简单说来就是在一种物质覆盖另一种物质，如果这两种物质的分子结合能够很好的镶嵌在一起，那么对真空镀膜情况肯定是有很大好处的，反之亦然。然后基片表面的温度也是会影响真空镀膜厚度是否均匀的；基片的温度越高则镀膜效果越好，当然在真空镀膜的时候也会纯在一些特殊的材料，它们的镀膜情况则是基片温度越
