学习情景二 常州信息职业技术学院 单元五： 掺杂 子任务2 ： 离子注入设备学习情景二 常州信息职业技术学院 离子注入机结构构造 离子注入机是实现注入掺杂的关键设备， 不象扩散技术，每种杂质都必需单独配备 一套扩散系统，而一台注入机可进行多种 不同离子的注入； 扩散一次可同时对几十乃至几百个硅晶片 进行掺杂，而离子注入是一个一个逐点扫 描注入的。学习情景二 常州信息职业技术学院 离子注入机示意图 离子源 分析磁体 加速管 粒子束 等离子体 工艺腔 吸出组件 扫描盘学习情景二 常州信息职业技术学院 （1 ）离子源 产生注入用离子的设备 原理：利用电子放电使气态离子源材料电离 ，产生离子浓度很高的等离子体，然后用 一负偏压（吸极）将正离子从等离子体中 吸出来成为一束离子流。 源材料：选择广泛，可以是任何一种能电离 的单质或化合物，优先选用气态源，如砷 烷，磷烷等。学习情景二 常州信息职业技术学院 （2 ）质量分析器 从离子源出来的离子束一般包含有几种离 子，而需要注入的仅仅是其中一种，因此 需要通过分析器将所需要的离子准确地筛 选出来。学习情景二 常州信息职业技术学院 分析器以磁分析器居多
